LayTec Epi In-situ Monitoring System
LayTec社製ウエハマッパー
LayTec EpiX Wafer Mapperは、光反射率とフォトルミネセンスを利用した高精度なウエハマッピングシステムです。この装置は、半導体製造プロセスにおける品質管理を強化し、生産効率を向上させるために設計されています。
主な特長
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高精度なリアルタイム測定
ファイバーベースの測定ヘッドと専用コントローラーを備え、測定性能と精度を最適化。
低スペクトルノイズ、優れた絶対精度、および2D測定の均一性を実現。
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柔軟なモジュラー設計
開カセット、SMIF、FOUPロードポートに対応する構成が可能。
最大300mm径のウエハに対応し、工業用途に必要な高スループットを実現。
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自動化とロボットロード
カセット間自動化を実現し、高スループットをサポート。
ウエハハンドリングと測定のために専用のファンフィルターユニットを装備し、クリーンルームに対応。
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高度な解析機能
フーリエ変換、ラプラス変換、マルチ指数関数過渡フィットなど、広範なデータ解析機能を提供。
ウエハごとの測定結果をインポートし、2Dマッピング解析を最適化するLayTec Connected Metrologyシステムを導入。
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製品メーカー案内
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LayTec社(ドイツ)
1999年設立。TUベルリンのスピンオフ企業で、25年以上の歴史を持ち、3500台以上のシステムを販売。LayTecはNynomic AGのメンバーで、光計測技術のリーディングカンパニー。