GaN Foundry Service

2020年より、UNIPRESS研究所（Institute of High Pressure Physics）社の高温高圧アニールサービスの取り扱いを開始しました。
お客様のご要求に応じたカスタムアニールプロセスの提供か可能です。

【サービス内容】

高温アニール：高温でのアニール処理により、半導体デバイスの欠陥修復やドーピングプロファイルの改善を行います。

高圧アニール：高圧環境下でのアニール処理により、デバイスの特性を最適化。特にSiCやGaNデバイスに効果的です。

1インチ及び2インチ

【対応可能圧力・温度】

温度範囲：500~2000K

圧力範囲：2GPaまで

温度変化測定：0.1K/h ~ 1600K/h

アニール時間：0.1秒〜1000時間

冷却速度：最大200K/min

*2GPa圧力も実施可能

UNIPRESS研究所（ポーランド）

The Institute of High Pressure Physics（IHPP）は、「UNIPRESS」とも呼ばれ、1972年にポーランド科学アカデミー高圧物理学研究所によって設立されました。ユニプレスは、もともと半導体の高圧研究を中心としていましたが、現在では、セラミックス、高温超伝導体、生体材料、金属の可塑性なども研究対象としています。