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Glass Service社はガラスの受託分析や、様々なガラス溶解技術機器を製造を製造するチェコの会社です。

Glass Service社はガラス溶解の基礎技術と製造技術を組み合わせイノベーティブな製品やサービスを提供することにまい進しております。代表的な製品としては、ガラス製造技術とIoTを組み合わせたアドバンスド制御システム（ESⅢ）が注目されております。

Bernard Bonnefond社は1925年に電動機やエンジンを修理する会社としてスタートしました。 それから80年、 彼 らは修理屋からガラス製造機器を製造・販売するメーカーとなりました。
現在、 Bernard Bonnefond社は国内外問わず、 世界中の顧客に機器の販売及びサービスを提供しています。サービスは顧客の異なる要望に応える製品開発から始まり、その幅は機器設置、起動、そしてオペレーター教育まで幅 広く提供しています。

Vitroflow社はガラス流量計測において50年もの経験のあるスウェーデンの会社です。
スウェーデンの南西の都市ヘルシンボルから、Vitroflow社はこれまでに100機以上の流量測定器を国内外に販売してきました。顧客のいかなるテクニカルトラブルに応えるため、彼らは24時間体制のカスタマーサポートを行なっています。

FLAMMATEC社は2008年にチェコGlass Service社の出資により設立されたガラス溶解炉用バーナー製造メーカー です。
彼らは様々な蓄熱炉に適したバーナーを製造します。 FlammaTec Germany GmbHは、すべてのタイプの再生炉、 エンドポートおよびサイドポートに適したバーナーを提供しています。 全てのバーナーは、アンダーポートとサイ ドポートの設置により高輝度の火炎を作り出します。 優れた熱伝達により低NOxを生み出すオイル、 ガス、 二重燃 料に適しています。

MOTIM社は世界でも有数の溶融鋳造耐火物の製造会社として知られています。同社の製品は、主にガラスおよびセラミック産業ならびに鉄鋼業の再加熱炉で使用されています。同社の売上高の90％以上が輸出によるものです。同社の元々の市場は西ヨーロッパと中央ヨーロッパでしたが、今では全ての大陸へ製品を供給しています。

Phystech社は、ドイツのカッセル大学発のDLTS測定装置専門メーカーです。2016年にリリースされたFT-1230は、競合製品と比較して最も多様な測定モードを持ち、あらゆる材料の研究者の要求に対応できる唯一のシステムです。

1999年に設立されたIn-situ エピタキシャルセンサー分野のリーディングカンパニー。
2009年から3年連続でドイツで最も急成長しているテクノロジー企業50社の1つにランクイン。
2011 年にはORS（Optical Reference Systems）を子会社化し、同社の技術にさらなる価値を追加した。
現在、世界中に2500以上の計測システムを設置しており、その75％がアジア、10％が北米、15％がヨーロッパにある。

Aehr Test Systemsは、1977年に設立され、NASDAQに上場している（ティッカーシンボル：AEHR）半導体テスト装置の専業メーカーです。本社はカリフォルニア州シリコンバレーにあり、FOXシステムをはじめとするバーンインのテストソリューションを提供しています。特に、300mm ウェハ全体やSiCウエハ全体のテストが可能な製品が評価されています。電気自動車用SiCデバイス、人工知能用デバイスなど、近年需要が急拡大している分野では圧倒的なシェアを誇っており、世界中で2,500以上のシステムがインストールされています。

1971年に設立され、半導体ウエハの研磨・研削装置の専門メーカーです。特にSiCやGaNなど化合物半導体の加工に強みを有しており、日本で最初のSiC専用研磨機をリリースするなど、精度の高い研磨技術を提供しています。企業理念として、「より薄く、より平坦に、より鏡面に」を掲げ、技術革新と信頼性を追求し続けています。技術力と顧客志向を強みに、国内外で高い評価を得ています。

株式会社エピクエストは、 エピタキシャル技術の専門企業であり、 特にSiCウェハの加工に優れたKOHエッチング装置を提 供しています。 また、MBEおよびMOCVDシステムの設計・製造においても豊富な実績を持っています。
KOHエッチング装置 (ETC-8001CE): EpiQuestのKOHエッチング装置は、 SiCウェハやGaNウェハのエッチピットを明らか にするための高温エッチングプロセスを安全かつ自動で行うことができます。 この装置は、エッチングプロセスのすべて のステップを自動化し、 人間が直接触れることなく操作を行えるため、安全性が高く、メンテナンスも容易です。

SiCやGaNなどの化合物半導体ウエハ用のエッジグラインダーとエッジプロファイラーを開発・製造する企業です。ウエハのエッジグラインダー開発には40年の歴史があり、前身である雄飛電子では装置の共同開発の初期段階から関与しています。

特にSiC向け装置に多くの実績を有しており、2008年にSiC向け装置を初めて納入し、欧米SiCウエハメーカーや日本の主要ウエハメーカーに多く装置を提供してきました。加工精度において競合機に優位性を持ち、エッジプロファイラーも累計60台以上を出荷しています。

株式会社ニデックは1971年に愛知県に創業。医療、眼鏡機器、コーティングの3つの分野に事業を展開してきましたが、近年では半導体ウェハのフラットネス測定においても、精密な干渉計技術を提供しています。特にFT-900シリーズは、シリコン、SiC、GaN、サファイアなどの多様なウェハ材料に対応し、高精度なフラットネス測定を可能にします。

2001年よりSiCrystal社のSiC バルクウエハの取扱いを開始しました。
昇華法で製造されるSiCrystal社のSiC バルクウエハは、他社に比べて高い量産実績を誇ります。
高信頼性によって、ローム社のSiCデバイスへの採用を筆頭に多くのメーカーでの採用実績があります。
量産規模用と研究開発用のグレードがあるので、使用目的や要求される仕様により選ぶことができます。

2024年よりLattice社のSiC バルクウエハの取扱いを開始しました。
中国で初の液相法によるSiC基板成長を行っており、液相結晶成長の技術レベルは国際トップレベルを誇っています。

Coherent社(旧Ascatron社)は独自の技術と高い実績を持ち、n型・p型のいずれでも、低濃度から高濃度まで、R&D向け特殊仕様・量産向け仕様を問わず提供が可能です。
長年の経験から、お客様のご要望にあわせて、特殊な仕様にも柔軟に対応し、高品質且つ、最適なサービスを選定して提案します。
「他メーカーで断られた」という仕様を実現した事例も多数あります。

2000年に設立された高性能エピタキシャルウエハの研究開発と生産に特化したメーカーです。
会社設立前の2016年からSiCの研究開発を行っており、2019年に6インチエピウエハの量産を達成。
2022年には新たに工場を増設し、 中国で初めて品質管理規格であるTS16949に認証された企業として現在中国で 拡大しています。

mi2-factory 社（ドイツ、Jena）
ドイツのJena大学での「エネルギーフィルターを用いたイオン注入制御の開発プロジェクト」に参加していた教授・研究者を中心に、2016年に設立されたスピンアウトベンチャー。
エネルギーフィルターを使用したイオン注入コントロール技術を提供しており、フィルター単体の提供も行っている。

HZDR Innovation 社（ドイツ、Dresden）
ドイツ有数のR&D機関であるHelmholtz-Zentrum のDresden 研究所が保有する、世界でもトップレベル（〜50MeV）の高エネルギーイオン注入機を用いて、産業界に貢献する目的で設立されたスピンアウトベンチャー。
欧米を中心に13カ国にわたる製造企業、研究機関へ注入サービスを提供している。

NovaSiC社（Soitec Group）（フランス Grenoble）
SiC GaN などの先端材料の研磨加工における、欧州一のサービスプロバイダー。1995年に設立後、一貫して、フランス、欧州の先端材料研究プロジェクトにおいて研磨開発の担当を担ってきました。ウエハメーカーの研磨受託もおこなっており、加工実績、通算研磨枚数における世界有数の研磨加工メーカーである。

Ammono社（Unipress）（ポーランド）
1992年にワルシャワ大学にてスタートしたGaN単結晶研究開発プロジェクトを基にして、1999年にGaN単結晶基板専門メーカーとして設立された。アモノサーマル法で高品質の単結晶基板を製造する、優れた技術を持っている。現在はポーランド高圧物理学研究所の一部となり、研究開発に力を注いでいる。

Nanowin社（中国）
Nanowin Science and Technology Co, Ltd.（Nanowin）は、2007年に蘇州（中国）に設立された。高品質の窒化物半導体材料を製造する技術開発に特化したハイテク企業。

Eta Research社（中国）
Eta Research Ltd.は、2015年4月に設立されたハイテク企業で、半導体業界向けに手頃な価格で生産できる大型高品質のGaNウェハの育成に注力している。GaNウェーハの製造方法としては、自社開発のHVPEを採用している。

Enkris Semiconductor社　(中国)
2012年にGaNのエピファウンドリとして設立された。 中国、米国、日本など~200件の特許出願を行い、66件の特許が付与されており imecからは特許ライセンスを80件取得済。 GaNエピ材料の設計および製造のためISO9001:2015証明書を取得。

Seen Semiconductor社（ポーランド）
2011年に設立されたポーランドのワルシャワに本社を置く企業です。ポーランド科学アカデミーの高圧物理学研究所（Unipress）からスピンオフした会社であり、III-V族化合物半導体のエピタキシャル成長に特化しています。

UNIPRESS研究所（ポーランド）
The Institute of High Pressure Physics（IHPP）は、「UNIPRESS」とも呼ばれ、1972年にポーランド科学アカデミー高圧物理学研究所によって設立されました。ユニプレスは、もともと半導体の高圧研究を中心としていましたが、現在では、セラミックス、高温超伝導体、生体材料、金属の可塑性なども研究対象としています。