离子注入服务
离子注入服务特长
提供以硅为中心的SiC、GaN、GaAs等衬底的离子注入服务。最大的特征就是高能量离子注入，使用6MV的注入设备，可实现50MeV超的离子注入。应用于使用H，He等轻元素的Lifetime控制、使用B，P，As的参杂、电界控制等多种领域。在功率器件注入方面也有很多业绩。可以提供世界最高能量离子注入服务，可实现一般离子注入设备所实现不了的SiC10um深的离子注入。
弊司提供的离子注入服务供应厂商是HZDR Innovation GmbH，该司为世界屈指可数的高能量离子注入服务公司。
产品厂家介绍
HZDR Innovation 公司（德国、Dresden）
该司为德国屈指可数的R＆D机构，属于Helmholtz-Zentrum 的Dresden研究所的Spin OutVenture企业。公司成立目的为使用该研究所的世界最高能量离子注入设备，向业内提供服务。现在以欧洲为中心，向13个国家的企业、研发机构提供离子注入服务。离子注入设备包括2MV，3MV,6MV、覆盖岑面很广，研发至量产等领域均可用到。
应用案例
1.Si衬底注入H, He的Lifetime控制 （功率器件用途）
2.SiC注入氮、铝、boron等元素，深度~10μm以上（功率器件用途）