SiC エピサービス ガラス製造技術とワイドギャップ半導体のセラミックフォーラム

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SiC エピサービス

SiC エピサービス の特長

セラミックフォーラム(株)では、SiC 基板上へのSiCホモエピタキシー成膜サービスを提供しております。n型、p型ともに低濃度から高濃度まで、R&D向け特殊仕様のエピから、量産向け仕様のエピの双方ともに提供が可能です。一番の「売り」は、柔軟にお客様のご要望に対応するスタンスで、どのような特殊な仕様にも、他メーカーで断られた仕様も、実現いたします。

弊社が取り扱うエピサプライヤーは、Ascatron社、Norstel社の2社で、両社ともにR&D用途から量産用途の幅広い仕様のエピに対応しております。

エピ製膜サービス

製品メーカー案内

スウェーデン Ascatron社

Ascatron社(スウェーデン)

エピタキシーから、デバイス設計~パッケージまでの工程を手がける、2011年設立のSiC専門ファブ。
スウェーデンの国営研究機関(ACREO)からのスピンアウトベンチャーであり、同研究機関にて、1993年からSiCの研究開発を行っておりました。
数多くの開発実績をもとにした独自ノウハウによる、3DSiCエピタキシャル構造や、デバイス設計、プロセス技術等の、同社でしか提供のできないノウハウと技術を提供しております。

スウェーデン Norstel社

Norstel社(スウェーデン)

SiC 研究において高い実績と歴史を誇るスウェーデンのリンチョピン大学からのスピンアウトベンチャー。現状、欧州最大のエピサービス供給会社。1993年より開始された、スウェーデンLinkoping大学とABB社のSiC共同研究を礎として、フィンランドのSiウエハメーカー、Okmetic社傘下を経て、2005年に独立。量産用SiCエピ炉と研究開発用枚葉式エピ炉の他、数多くの評価装置を有し、大量生産に対応した体制を築き上げております。

応用例

  1. SiC ユニポーラデバイス用エピ(SiC-SBD, MOSFET, JFETs)

  2. SiC バイポーラデバイス用エピ(SiC-PiN Diode)

  3. 超高耐圧デバイス用エピ(SiC-IGBT) 




仕様

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